中心设备
CENTRAL EQUIPMENT
配置：明场、暗场、偏振光及微分干涉衬度和干涉（条纹）功能。
另有宏观附件、投影屏。
摄影系统：有135及4×5和120胶卷，具有自动测光系统、自动曝光系统。
显微放大倍数：20×~1500×
低倍宏观分析1-4倍;
高倍微观分析12～1500倍；
主要用于具有反光材料的使用上，测定其组织形貌，金属材料的组织结构，表面镀层质量、厚度、芯片
的结构、渗层组织和深度等。
邮编：116024
地址：中国·辽宁省大连市甘井子区凌工路2号
